993-07-7/三甲基硅烷的應用舉例

背景及概述^[1]

三甲基硅烷((CH₃)₃SiH)近年來作為半導體領域中的層間絕緣膜、作為成膜原料，其用途逐漸擴大。

應用^[1-3]

應用一、

CN201410418294.X公開了一種光引發劑雙(2,4,6-三甲基苯甲?；?苯基氧化膦的制備方法，其合成步驟為在惰性氣體的保護下，三氯化鋁或四氯化錫和三甲基硅烷在0~100℃溫度范圍內反應得到二氯化鋁離子，并迅速與反應體系中的苯基二氯化膦作用，得到雙(二氯化鋁或三氯化錫)膦鹽中間體，接著該中間體和2,4,6-三甲基苯甲酰氯發生反應，得到雙(2,4,6-三甲基苯甲?；?苯基膦，在20~50℃溫度條件下再經二氧化氮氧化，得到目標產物。該方法避免了使用危險的活潑金屬鉀或鈉，采用價格相對低廉的三氯化鋁或四氯化錫和三甲基硅烷現場生成活性中間體來實現這一反應。該方法具有制備成本低，操作過程簡單、安全，反應過程易于控制，產品收率高，純度好，易于實現大規模生產等特點。

應用二、

CN201010285729.X提供一種SiCN擴散阻擋層制備工藝，采用等離子體輔助化學氣相沉積方法，反應氣體為三甲基硅烷、氨氣和硅烷沉積形成所述SiCN擴散阻擋層。本發明的SiCN擴散阻擋層制備工藝通過在反應氣體中增加硅烷氣體使得三甲基硅烷和氨氣在反應室內分布的更加均勻，從而使得反應生成的SiCN擴散阻擋層中各個部位的組分分布都更加均勻。

應用三、

CN201910815675.4報道了一種納米疏水劑，包括如下成分：10%-25%二甲基二乙氧基硅烷、5-20%三甲基硅烷、1-10%羥基硅油、1-5%KH550氨基官能團硅烷、20-55%的乙醇溶液，該涂層增大了與水的接觸角，從而顯著提高了排水效果，只需少量的水來清洗，同時減小了水的滑動角，使玻璃表面更容易擦洗，祛除了有害清潔劑的使用。

參考文獻

[1] CN201410418294.X一種光引發劑雙(2,4,6-三甲基苯甲?；?苯基氧化膦的制備方法

[2] CN201010285729.X一種SiCN擴散阻擋層制備工藝

[3] CN201910815675.4一種納米疏水劑及其制備方法