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羧酸氟化物和全氟化酮可以通過電化學氟化(ECF)制備相應的烴羧酸(或其衍生物)如十一氟己酸甲酯,使用無水氟化氫(SimonsECF)或KF.2HF(PhillipsECF)作為電解質。然而,SimonsECF的缺點是經常發生副反應,并且由于重排和降解產物的形成,通常獲得低純度和低產率。十一氟己酸甲酯可用于一種用于磁控濺射的摻氟氧化錫靶材,包括以下步驟:高溫條件下,分別將錫化合物與十一氟己酸甲酯氣化后混合,并由載氣將此混合氣體帶至高溫反應器中,在反應器內壁或底部生成FTO結晶或粉末;將此FTO結晶或粉末進行研磨、壓片以后,即得用于磁控濺射的摻氟氧化錫靶材,該靶材是能用于磁控濺射的高致密性、高均勻性的固體FTO靶材。本發明所述錫化合物與氟化合物分別氣化,能防止兩種物質在進入高溫反應器之前反應,即防止目標產物(摻氟氧化錫靶材)在進入高溫反應器之前沉積。
用450mL三氟乙酸和50mL濃H2SO4處理510g正己醇制備部分氟化的前體酯十一氟己酸甲酯。用(1,1,2-三氯-1,2,2-三氟乙烷)中的F2氟化97g前體。生產全氟化酯十一氟己酸甲酯。使用三板Snyder柱除去酯的FreonTM113溶液,得到134.2g粗全氟化酯產物。將產物與30mL三甘醇二甲醚(三甘醇二甲醚)混合,向其中加入2gKF。然后蒸餾液體產物全氟己酰氟,得到46.2g沸點為60-64℃的n-C5FuCOF。用甲醇處理氣體和液體產物的樣品,得到甲酯十一氟己酸甲酯,通過氣相色譜法(GO分析)確認。
[1]CN201410048945.0用于磁控濺射的摻氟氧化錫靶材及其制備方法
[2](WO1995025082)PROCESSFORCONVERTINGPERFLUORINATEDESTERSTOPERFLUORINATEDACYLFLUORIDESAND/ORKETONES