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409-21-2 / 碳化硅和氮化鎵的區(qū)別在哪?

近年來,研究人員和技術(shù)人員一直在共同努力,尋找優(yōu)化器件能效和提高器件性能的解決方案。盡管微控制器在數(shù)碼設(shè)備上已經(jīng)達(dá)到了非凡的節(jié)能水平,但是在功率器件中使用新材料也取得了最佳效果。不久前,人們認(rèn)為SiC和GaN器件的應(yīng)用相當(dāng)困難。但2018年,這些技術(shù)的優(yōu)勢開始應(yīng)用到現(xiàn)實(shí)生活中(比如采用SiC MOSFET的Tesla Model3主逆變器)。這項(xiàng)新技術(shù)成功的原因是什么?

SiC和GaN被稱為“寬帶隙半導(dǎo)體”(WBG),因?yàn)閷⑦@些材料的電子從價(jià)帶擴(kuò)散到導(dǎo)帶需要能量: 其中硅(Silicon)所需能量為1.1eV,氮化硅(SiC)則需3.3eV,氮化鎵(GaN)則需3.4eV. 這就帶來了更高的擊穿電壓,在某些應(yīng)用中可高到1200-1700V。通過合適的生產(chǎn)工藝,WBG展現(xiàn)出以下優(yōu)點(diǎn):

●極低的內(nèi)部電阻,與同類硅器件相比,效率可提高70%

●低電阻可改善熱性能(最高工作溫度增加了)和散熱,并可獲得更高的功率密度

●散熱得到優(yōu)化,與同類硅器件相比,就可以采用更簡單的封裝、尺寸和重量也大大減少

●極短的關(guān)斷時(shí)間(GaN器件接近于零)能夠工作于非常高的開關(guān)頻率,而且工作溫度也更低

傳統(tǒng)的電力電子設(shè)備使用的各類器件都可以用WBG器件代替。而傳統(tǒng)的硅器件在許多應(yīng)用領(lǐng)域都達(dá)到了極限。顯然,WBG技術(shù)是未來電力電子的根基,將為各種領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用奠定基礎(chǔ)。

SiC和GaN的區(qū)別

不同的應(yīng)用所需的功率和頻率性能不同,無論硅器件還是新型WBG器件,每種類型的器件都有其用武之地。盡管在概念層面上有相似之處,但SiC和GaN器件彼此不可互換,二者因系統(tǒng)的工作要求和使用參數(shù)不同而有很大差別。

尤其需要指出,SiC器件能承受更高的電壓,高達(dá)1200伏及以上,而GaN器件則能承受的電壓和功率密度要低一些;另一方面,由于GaN器件的關(guān)斷時(shí)間幾乎為零(由于具有高電子遷移率,其dV/dt電壓大于100V/s,而MOSFET硅器件僅50V/s),特別適用于非常高頻的應(yīng)用,可達(dá)到極高的能效和性能。但這些理想的特性也會給應(yīng)用帶來麻煩:如果器件的寄生電容不接近于零,就會產(chǎn)生數(shù)十安培的電流尖峰,而在電磁兼容測試階段出現(xiàn)問題。

由于可以采用TO-247和 TO-220封裝,SiC能夠在封裝方面發(fā)揮更多優(yōu)勢,因?yàn)檫@兩種封裝可以讓新的SiC器件快速替換IGBT和MOSFET器件。而采用SMD封裝(更輕、更小但還比較新)的GaN則能提供更優(yōu)性能。

另一方面,這兩種器件面臨的共同挑戰(zhàn)都與柵極驅(qū)動器的設(shè)計(jì)與構(gòu)造有關(guān)。柵極驅(qū)動器應(yīng)當(dāng)能夠充分利用特定的分量特征,同時(shí)又要關(guān)注寄生分量(必須最小化以避免性能降低)和適當(dāng)?shù)碾妷核?希望類似于驅(qū)動傳統(tǒng)硅器件的電壓水平)。就成本而言,SiC器件現(xiàn)在更便宜,也更普及,因?yàn)樗鼈兪窃贕aN之前出現(xiàn)的。然而,不難想象,成本一方面與生產(chǎn)工藝有關(guān),同時(shí)也跟市場需求有關(guān),因此市場價(jià)格會趨于平穩(wěn)。

由于GaN襯底的生產(chǎn)成本較高,因此采用GaN“通道”的器件都以硅為襯底。最近,瑞典林克平大學(xué)(University of Linkóping)與其剝離公司SweGaN合作進(jìn)行了一些研究,按照SiC襯底和新的晶圓生長工藝(稱為跨晶異質(zhì)外延,可防止出現(xiàn)結(jié)構(gòu)缺陷)的想法,獲得了可與SiC器件相媲美的最大電壓,但工作頻率可以達(dá)到硅基GaN的水平。這項(xiàng)研究還表明,采用這一機(jī)制能夠改善熱管理、獲得3kV以上的垂直擊穿電壓,以及比目前解決方案小一個(gè)數(shù)量級的通態(tài)阻抗等性能。

應(yīng)用和市場

WBG器件的應(yīng)用領(lǐng)域仍然是一個(gè)小眾市場,研發(fā)人員仍然需要更好地了解如何最大限度地發(fā)揮其潛力。其最大的新技術(shù)市場是二極管市場,但WBG預(yù)計(jì)將在未來5年內(nèi)充斥晶體管市場。

潛在應(yīng)用已在醞釀之中。據(jù)預(yù)測,電動車、電信網(wǎng)絡(luò)和消費(fèi)電子市場是最合適的目標(biāo)市場。

根據(jù)銷售預(yù)測,最有利可圖的市場將是涉及電動車和自動駕駛汽車的市場,其中WBG器件將用于逆變器、車載充電設(shè)備(OBC)和防撞系統(tǒng)(LiDAR)。鑒于這類器件的熱特性和能率,可以很好地滿足蓄能器性能優(yōu)化的要求,人們自然會作出這種預(yù)測。

在電信方面,5G將成為WBG的驅(qū)動力。待安裝的數(shù)百萬個(gè)基站將需要更高的能效,并且尺寸將變得更小巧輕便,以顯著提高性能并降低成本。

消費(fèi)電子市場也將大量采用這類新型器件。移動設(shè)備的日益普及和快速充電需求將驅(qū)動無線供電和充電設(shè)備對新型器件的需求。

SiC和GaN器件

英飛凌已經(jīng)開發(fā)了一系列的SiC和GaN MOSFET器件及其CoolSiC和CoolGaN系列驅(qū)動器。值得注意的是,其FF6MR12W2M1_B11半橋式模塊它能夠在1200伏的電壓下輸出高達(dá)200安培的電流,而其RDS(on)阻抗僅為6 mΩ。該模塊配備了兩個(gè)SiC MOSFET和一個(gè)NTC溫度傳感器,適用于UPS和電機(jī)控制應(yīng)用,可以改善能效和散熱(圖1)。

Microsemi的產(chǎn)品線中也有一個(gè)類似的解決方案,即相腳SiC MOSFET模塊。該模塊采用了SP6LI系列器件,能夠承受高達(dá)1700V的電壓和大于200A的電流;AlN襯底可確保更好的熱管理,兩個(gè)SiC肖特基二極管可以提升開關(guān)頻率。

Wolfspeed公司也在緊追市場,其CAB450M12XM3半橋式器件可以控制高達(dá)1200V的電壓和450A的電流,得益于其第三代MOSFETs和SiN襯底的結(jié)合,使其能夠在175°C的連續(xù)模式下工作。

當(dāng)我們細(xì)看GaN市場時(shí),顯然可用的器件種類是有限的。GanSystem產(chǎn)品目錄中的GS-065-150-1-D是一款采用Island專利技術(shù)的晶體管,能夠在超過10MHz的開關(guān)頻率下控制高達(dá)650V的電壓和150A的電流。

最后,繼宣布推出TP90H050WS場效應(yīng)管后(將于2020年中期上市),Transphorm公司開始致力于采用TO-247封裝的GaN器件的開發(fā),其工作電壓高達(dá)900V,上升和下降時(shí)間約為10nS(圖2)。

碳化硅和氮化鎵的區(qū)別在哪?

圖1:FF6MR12W2M1_B11半橋式模塊

碳化硅和氮化鎵的區(qū)別在哪?

圖2:TP90H050WS場效應(yīng)管

還有什么值得期待?

或許人們還需要等待一段時(shí)間才能感受到WBG器件的驚人潛力,但其應(yīng)用場景正在演變,制造商亦開始提供可靠的解決方案。可以確信的是:WBG器件作為一種新型工具解決了功率器件設(shè)計(jì)師在這個(gè)以“效率”為口號的時(shí)代所面臨的問題,這將直接給市場帶來巨大沖擊。