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18407-94-8 / 四乙氧基乙基原硅酸的主要應用

背景及概述[1]

四乙氧基乙基原硅酸可用作醫藥化工中間體。

應用[1]

四乙氧基乙基原硅酸可用于制備一種含二氧化硅聚酰亞胺薄膜,包括采用納米級SiO2粉體和聚酰胺酸,所述的聚酰胺酸是由均苯四甲酸二酐和4,4’-二氨基二苯醚合成反應所得到的聚酰胺酸,其特征是:在聚酰胺酸合成時,首先對均苯四甲酸二酐和4,4’-二氨基二苯醚按反應所需的摩爾比計算各自所需的反應量,加入計算所需的均苯四甲酸二酐與95%的4,4’-二氨基二苯醚于反應釜內在45℃溫度下反應6小時,得到聚酰胺酸,在合成得到的聚酰胺酸中加入聚酰胺酸重量5%-10%的四乙氧基乙基原硅酸,攪拌0.5小時,再將需加入的納米級SiO2粉體與剩余的5%的4,4’-二氨基二苯醚混合充分攪拌,然后加入到加有四乙氧基乙基原硅酸的聚酰胺酸中,再進行充分攪拌,在此,所述的納米級SiO2粉體是經研磨后粉體粒徑達到D90<1um的納米級SiO2粉體,納米級SiO2粉體的加入量占聚酰胺酸總量的5%-30%,然后用均苯四甲酸二酐調節最后反應生成物的粘度達到90000±5000CP,最后脫泡流涎成膜即可。得到的含二氧化硅聚酰亞胺薄膜,其有益效果是:1)解決了SiO2在有機基體中較容易發生團聚,提高了與有機體的相容性,由此提高了聚酰亞胺薄膜材料的整體性能;2)充分發揮二氧化硅中的硅氧鍵Si-O的鍵能,從而有效地提高薄膜熱穩定性和力學性能;3)二氧化硅本身具有良好的散熱性能,提高了產品的導熱性;4)對于局部高壓具有很好的能量消耗作用,延長使用壽命。

主要參考資料

[1] CN201210560650.2含二氧化硅聚酰亞胺薄膜的制備方法