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砷化鎵(GaAs)材料是繼硅單晶之后第二代新型化合物半導體中最重要,用途最廣泛的材料之一,主要用于光電子產(chǎn)業(yè)和微電子產(chǎn)業(yè)。本文對砷化鎵材料應用與市場現(xiàn)狀進行了解析。
電子遷移率和光電轉(zhuǎn)化效率高,在微電子和光電子領域應用廣泛
砷化鎵屬III~V族化合物半導體,閃鋅礦型晶格結(jié)構(gòu),晶格常數(shù)5.65×10-10m,熔點1238℃,禁帶寬度1.42V。與元素半導體Ge和Si相比,GaAs具有重要特性:
砷化鎵按照材料特性可分為導電型砷化鎵和半絕緣砷化鎵。導電型砷化鎵應用到光電子領域,單晶生長方法有HB、VB、VGF法,單晶尺寸有Φ2”、Φ3”、Φ4”和Φ6”,以Φ4”為主,主要用于制作LED。半絕緣砷化鎵應用到微電子領域,單晶生長方法有VGF、VB、LEC法,單晶尺寸有Φ4”和Φ6”,主要用于制作射頻(RF)功率器件。
在微電子領域,利用砷化鎵的電子遷移率高、禁帶寬度大、直接帶隙、消耗功率低等特性,制作的微波大功率器件、低噪聲器件、微波毫米波單片集成電路、超高速數(shù)字集成電路等以移動通信、光纖通信、衛(wèi)星通信等代表的高技術通信領域以及廣播電視、全球定位、導航、超高速計算機、信息安全、雷達、軍工通信、軍工電子等領域都有廣泛的應用。
在光電子領域,利用砷化鎵的直接躍遷能帶結(jié)構(gòu)具備的高電光轉(zhuǎn)化效率特性,制作的發(fā)光二極管(LED)、激光器(LD)、光探測器等各類光電器件在以背光顯示、半導體照明、汽車、智能手機、可穿戴和安防設備等領域都有廣泛的應用。砷化鎵材料的主要用途。
國內(nèi)廠商只提供導電型砷化鎵,國外產(chǎn)商以半絕緣砷化鎵為主。
砷化鎵材料全球年產(chǎn)量約350t,產(chǎn)值4億美元,這將帶動下游芯片、器件、應用產(chǎn)品等數(shù)百億美元的產(chǎn)值。據(jù)Strategy Analytics 2017年的調(diào)查報告,2016年砷化鎵RF器件的年產(chǎn)值就達到75億美元。
2017年,國內(nèi)的砷化鎵生產(chǎn)企業(yè)(不含美國AXT),砷化鎵單晶全年銷量預計折合成2英寸晶片為1300萬片,產(chǎn)值預計為6億元,同比增長超過25%。2017年國內(nèi)4英寸砷化鎵晶片銷量同比大幅增長,全年銷售片數(shù)超過2英寸晶片片數(shù)30%。
砷化鎵材料國內(nèi)生產(chǎn)商只提供導電型砷化鎵,銷售市場有中國大陸、中國臺灣、日本、韓國等。砷化鎵材料國外生產(chǎn)商以提供半絕緣砷化鎵為主,其銷售市場也位于中國大陸以外。
半絕緣砷化鎵市場供不應求,導電型砷化鎵市場國內(nèi)廠商靠低價競爭
砷化鎵在光電子領域和微電子領域市場份額各占一半左右,近十幾年市場總體小幅穩(wěn)定增長。未來,光電用砷化鎵襯底需求以Φ4”為主,市場將小幅增長。
2017年半絕緣砷化鎵需求大幅增長,以前半絕緣砷化鎵市場占有率較小的美國AXT公司在2017年第二、三季度出現(xiàn)產(chǎn)品供不應求的情況。
而隨著砷化鎵功率放大器在智能手機、無線網(wǎng)絡中應用的增加,預計在未來5年,砷化鎵微電子市場年增長率將達到5%以上。目前國際上主要還是以Φ4”晶片為主,但隨著科技發(fā)展,預計幾年后將轉(zhuǎn)變?yōu)橐?Phi;6”晶片為主。
導電型砷化鎵用戶基本集中在亞洲,中國大陸和中國臺灣占了市場的一大半,其他均在日本和韓國。導電型砷化鎵85%用作可見光LED襯底,10%用作LED光電探測器,5%用作紅外LED襯底。
在中國大陸,主要用戶是廈門三安和乾照光電,其中廈門三安是全球最大的LED制造商之一。他們生產(chǎn)的砷化鎵外延片有Φ2”和Φ4”,2017年以Φ4”為主。
中國臺灣最大的用戶是晶元電,其生產(chǎn)的砷化鎵外延片基本從Φ2”轉(zhuǎn)為Φ4”。日本用戶其自身大部分自給自足,少量從中國采購。
在導電型砷化鎵市場,國內(nèi)各大生產(chǎn)企業(yè)近幾年一直處于低價惡性競爭的環(huán)境,造成各大企業(yè)基本都虧損。
結(jié)語
砷化鎵(GaAs)材料是繼硅單晶之后第二代新型化合物半導體中最重要的材料之一。其性能優(yōu)異,電子遷移率和光電轉(zhuǎn)化效率高,在微電子和光電子領域應用廣泛,尤其在5G商用化進程中,將發(fā)揮無可替代的作用。
國內(nèi)廠商只提供導電型砷化鎵,一直處于低價競爭的市場環(huán)境中。國外廠商以提供半絕緣砷化鎵為主,市場一度供不應求。
來源:化合物半導體市場